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产品描述
本设备主要针对高校及科研机构的教学与科研工作用户而设计；采用分体式设计，电器操作控制部分采用触摸屏及PLC组合。
技术参数：
1.采用机械泵与分子泵的抽气系统，真空环境清洁。
2.极限真空：≤5.0x10-5Pa 。
3.恢复工作真空时间≤40min(≤6.0x10-4Pa)
4.配置金属蒸发源（钨极），有机束源炉等；可在线测量膜层厚度。
5.样品可自转，可实现无间隙在线掩膜2次；样品可在线升降，以满足最佳的镀膜工艺要求。
6.蒸发电源采用1带二模式，电控切换。
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