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产品描述
一、设备性能：
镀膜设备以蒸发源为主体，适用于实验室制备金属单质、氧化物、介电质等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等，整套设备操作简便，综合功能多，扩展空间大，适合及满足大专院校的教学与科研工作。
二、设备基本结构及主要技术指标：
镀膜设备由真空室腔体，蒸发源系统，样品台系统，真空泵机组，膜厚检测系统，设备机架，电控系统和手套箱组件组成，真空室前门可与手套箱对接，采用一体化的设计方案，整套设备结构紧凑、布局简洁，避免实验设备外观凌乱的现象。
1、真空室腔体：1套
- 外形：圆柱式式真空室1套，上开盖，铰链式前开门(配备观察窗一套)
- 底部：蒸发源接口2套，膜厚探头接口1套，样品台接口1套，真空放气阀接口1套；
- 侧壁：JTFB-300Z脂润滑分子泵接口1套，预留法兰若干；
- 腔体漏率：整体漏率优于5×10-10Pa.m3/S，保压12小时，压强小于10Pa。
2、蒸发源系统：1套
- 蒸发源2套：铜电极2组，兼容蒸发舟（钨、钼，钽舟）和螺旋丝，1KW直流电源1台，可切换，数字显示；
- 隔板：蒸发源采用隔板分隔，避免交叉污染，部分隔板可免工具拆卸。
3、样品台系统：1套
- 基片挂架：方形托盘，放置15*15mm基片9片。
4、真空泵机组：1套
- VRD-16双级泵1台；
- DDC-JQ25-KF真空电磁充气阀1台；
- KF25泵阀连接软管1套；
- GDQ-J25B-KF高真空气动挡板阀1台；
- JTFB-300Z脂润滑分子泵1台；
- 真空放气阀1台；
- ZDF-5227数显真空计1台（测量范围：1×105～1×10-5Pa）。
5、膜厚检测系统：1套
- 膜厚仪：采用SQC310石英晶振膜厚监控仪1台，模式：顺序镀膜，探头：2通道；显示以及控制精度：0.01Å/秒，频率分辨率0.01Hz；
- 膜厚探头：美国MCVAC水冷膜厚探头1套，6MHz，采用快速卡扣式结构更换晶振片，避免用螺纹压紧式结构损坏晶振片，采用胶圈锁紧密封结构。
6、设备机架：1套
- 40碳钢方管焊接机架1套，表面喷塑；
- 3英寸万向轮4件，移动调整；
- M16地脚4件，锁紧定位。
7、其他电控系统：1套（电气控制采用设备机架内置）
- 总控制电源1台，配10英寸触摸屏，PLC控制器，样品台及挡板控制器，蒸发源挡板控制器，泵阀开关、相序检测，以及电缆开关接头等。
8、其他技术参数：
- 缺相保护、误操作保护，联动互锁以及一键真空启停等功能；
- 供电：～220V单相供电系统（峰值4KW）；
- 供气：小型无油静音气泵，提供0.2-0.3MPa气压，驱动气动阀门；
- 极限真空：优于6×10-5Pa，大气至6×10-4Pa时间小于35分，充干燥氮气。
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