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立式矩形靶磁控溅射设备(四靶位)

所属分类:

磁控溅射镀膜设备


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产品描述

该设备为立式四靶位矩形靶磁控溅射设备,可用于镀制的单层膜、多层膜合金膜等。
矩形磁控靶数量:4支
靶尺寸:240×85
开启方式:上开盖
衬底可选择,转速可调
衬底可加热,最高加热温度750℃
 
 
 

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