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产品描述
本系统为单室结构的超高真空多功能磁控溅射镀膜系统，可用于开发纳米级的单层、多层功能膜及复合膜-各种硬质膜、金属膜、合金膜、介质膜等。
磁控溅射室约Φ400×400mm，为筒形立式全不锈钢结构、可安装三只标准磁控靶，外表面喷丸亚光处理。前开门装片，采用向心溅射方式，磁控靶60mm、导磁及非导磁的仿进口标准靶，每只靶都有独立挡板。样品台可加热可旋转。
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